真空热压炉OTF-1200X-VHP4

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产品简介：真空热压炉OTF-1200X-VHP4是在真空高压下制备致密化合物材料的理想工具，在5T压力下可键合多层基片。本机可以加热到1100 ℃，并设有30段控温程序。

产品型号	真空热压炉OTF-1200X-VHP4
安装设备	1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）。 3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头） 5、通风装置：需要
主要特点	1、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层，可以提高反射率和洁净度，同时延长使用寿命。 2、石英管两端设有带水冷的法兰。 3、在石英管内真空环境下，通过底部可调整弯管移动液压柱，将压力传输到模具。
技术参数	1、输入电源：AC 220V 50Hz/60Hz 6KW 2、输出功率：2.2KW 3、石英管：外径100mm，内径95mm，长Ø25mm 9、可移动行程：15mm 10、最大压力：6T（压力表显示10MPa） 12、真空度：10^-2torr（机械泵），10^-5torr（分子泵）
产品规格	尺寸：1050mm×750mm×1750mm；重量：365kg
可选配件	1、冷水机 3、耐高温压力模具